极高真空系统 CORE PRODUCT

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极高真空镀膜系统
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商品详情

主要指标:

1. 系统采用无油真空系统,主抽泵为分子泵;

2. 极限真空(含四个磁控靶、一个离子源及屏蔽版)达到10-9Pa量级;

3. 四靶磁控溅射,可镀多层膜及合金膜;

4. 可离子辅助溅射,离子源处真空保证在10-2Pa量级。

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