以超高真空技术为基础、以生产真空设备及各种电源为产品方向的科研生产型厂家.十几年来,我们同全国各高等院校及科研院所密切合作,共同开发研制出了一批高技术装备。我们重质量守信用、追求进步、勇于创新。欢迎各位朋友前来合作...
设备名称 Description |
型号 Model |
主要技术内容 Specification |
主要用途 Usage |
其它 Other |
CVD沉积设备
PCVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Equipment |
D700 |
极限真空:2x10-4Pa Ultimate cacuuum:2x10-4Pa
PECVD沉积室:900x900x400 OECVD chamber:900x900x400
样品:650 x650 Sample size: 650 x650
样品加热:300℃ temperature:300℃
射频功率:RF 2000W Sputtering power:RF 2000W
配气系统:5路流量控制 Gas flow system:5-MFC, Flow control
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太阳能电池薄膜制备。
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可选计算机控制。可实现多 层膜计算机控制自动沉积, 自动生成沉积过程温度、 射频电流、电压、气体流 量、真空度等随时间变化 的曲线。
Can Options:Computer Process control System. |