Electron beam evaporation system ZF-700

设备名称

Description

型号

Model

主要技术内容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

电子束蒸发系统

The

electron

beam

evaporates

system

ZF-700

极限真空：2x10^-4Pa

Ultimate cacuuum:2x10^-4Pa

蒸发室：700x700x600

Evaporates chamber:700x700x600

样品：φ450

Sample size:φ450

电子枪：8KW

Electronics:8KW

蒸发舟：2个

Boat of evaporate：2

配气系统：1路流量控制

Gas flow  system:1-MFC,flow control

膜厚控制：MDC360C

Thick control of film:MDC360C

样品转速控制：1~5转/分钟

Turning rate:1~5rpm

样片膜厚不均匀：小于±6%

The film deviation of the thick asymmetry:±6%

用于大面积平板显示器件的研制。

Used for researching to 

manufacture

 the big area flat panel

 type display piece

可选计算机监控。自动控制

蒸发过程蒸发速率、膜厚、

温度、电流、电压，并随

时生成其变化的曲线。

Can

options:Computer

 process control system.