设备名称 Description |
型号 Model |
主要技术内容 Specification |
主要用途 Usage |
其它 Other |
极高真空多靶磁控 溅射及电子束蒸发 复合镀膜机
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CK&ZF-500 |
主抽泵:单级分子泵 极限真空:6x10-9Pa Ultimate cacuuum:6x10-9Pa 溅射室:φ500 x450 Sputtering chamber:φ500 x450 靶:4xφ76 Target:4xφ76 样品:平面φ50;柱状:φ5 x5 x9只 样品加热:200℃ Sample heated temperature:200℃ 样片运动方式:公转、自转 Sample transmission:Revolted and rotated 配气系统:4路流量控制 Gas flow system:4-MFC, 进口4坩埚电子枪,功率6KW 计算机自动控制 |
用于制备各种单层或多层介 质膜、金属、半导体薄膜及工 艺研究。 Used for the production of metal films,medium films,semiconduct or films and metal films Suitable for scientific research. |
磁控溅射同时离子束辅助 |