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设备名称 Description |
型号 Model |
主要技术内容 Specification |
主要用途 Usage |
其它 Other |
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电子束蒸发系统
The electron beam evaporates system |
ZF-700 |
极限真空：2x10-4Pa Ultimate cacuuum:2x10-4Pa
蒸发室：700x700x600 Evaporates chamber:700x700x600
样品：φ450 Sample size:φ450
电子枪：8KW Electronics:8KW
蒸发舟：2个 Boat of evaporate：2
配气系统：1路流量控制 Gas flow system:1-MFC,flow control
膜厚控制：MDC360C Thick control of film:MDC360C
样品转速控制：1~5转/分钟 Turning rate:1~5rpm
样片膜厚不均匀：小于±6% The film deviation of the thick asymmetry:±6%
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用于大面积平板显示器件的研制。
Used for researching to manufacture the big area flat panel type display piece |
可选计算机监控。自动控制 蒸发过程蒸发速率、膜厚、 温度、电流、电压，并随 时生成其变化的曲线。
Can options:Computer process control system. |
